Home » Prodotti »
Deposizione ALD e CVD. ICP Plasma Etching
Aixtron
Sistemi per MOCVD, Atomic Layer Deposition, impianti dedicati per deposizioni speciali (SiGe, FeRAM, OLED, GaN...), Black Magic per deposizione grafene e CNT.
Atomic Layer Deposition Sentech
Sentech produce sistemi per deposizione tramite ALD (Atomic Layer Deposition) di film di ossidi, metalli e nitruri, in configurazione ALD termico e plasma-ALD.
Sentech
Sistemi per
- "etching" reattivo : RIE - ICPRIE
- deposizione assistita da plasma : PECVD - ICPECVD
Lesker
Sistemi di deposizione per evaporazione, sputtering ed e-beam, di materiali organici (es. OLED) ed inorganici (es. Combinatorial Material Science, CMS). Ampio range di configurazioni, da sistemi semplici e semi-automatici a sistemi complessi "cluster" comp
SPS Europe
Spin Coaters, Etching/Developing/Cleaning, Wet Stations, Rinser/Dryers